磁控溅射仪

1. 极限真空度：≤6.6×10-6Pa (经烘烤除气后，连续抽气24小时) 2. 系统从大气（空载，暴露大气时充干燥氮气，时间不超过5分钟）开始抽气，25分钟可达到6.6×10-4 Pa 3. 溅射室为圆筒形结构，尺寸约Ф800mm×300mm，双层水冷结构。 4. 磁控溅射靶：直径80mm 3个 5. 基片尺寸和数量： 直径4英寸样品,一次可放置6片 6. 样品加热温度：室温～600°C，连续可调 7. 100SCCM、50SCCM、20SCCM质量流量控制器 8. 分子泵：1台（进口），抽速1600 l/s； 9. 机械泵： 1台 （优成），抽速9 l/s 10. 射频电源：进口

主要用于金属表面防护膜和功能膜的制备

新材料

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。