离子溅射台

靶材：铂靶 样品室：玻璃腔体160mm×120mm（D×H） 最高真空度：≤ 4X10-2 mbar 最大电流：100mA 定时器：数码计时 0-999S 镀膜面积：50mm

1、成膜速率高。 2、基片温度低，可以对温度敏感的材料进行镀膜。 3、可实现大面积镀膜。 4、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小，颗粒大小约4-20nm。 5、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。

新材料

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。