镀膜机

真空度：5.0×10-4Pa 样品尺寸：8英寸及以下不规则 功率：8KVA； 6 穴坩埚； 蒸发源与基片距离≥400mm 2 组金属蒸发源；1 台 3Kw 蒸发电源供 2 组蒸发源切换使用 旋转速度：0～40 转/分钟 基片台加热 300℃±5℃

除了常规低熔点金属的蒸镀以外，TEMD500 还可以蒸镀 难熔金属材料，如 Al、Au、Ag、Ti、Cr、Pt 等 可应用于制备、导电薄膜等。

电子信息

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。