金属有机物化学气相沉积系统
MOCVD
- 规格型号：3*2"
- 运行状态： 启用
- 仪器类型： 3*2"
- 仪器认证： 已进行计量认证
- 参考收费标准： 按相关收费标准执行
服务信息
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生长温度：500-1200度； 生长压力：50-600torr； 石墨盘转速：0-300转/秒；
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可用于生长InAlGaN混晶材料、LED、光电探测器、太阳能电池和高功率器件等半导体材料和器件。
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电子信息
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客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。
联系方式
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陈航洋
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18959212283
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chycn@xmu.edu.cn
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亦玄馆洁净室
