双靶磁控溅射仪

磁控溅射头 仪器中安装有2个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温 其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材 另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材 靶材尺寸要求：金属靶：直径为50mmzui大厚度1.5mm 陶瓷靶：直径为50mmzui大厚度6mm 仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶 溅射头所需冷却水：流速10ml/min 真空腔体 真空腔体：300 mm Dia x 300 mm h，采用不锈钢制作 观察窗口： 100 mm diameter 载样台 载样台尺寸：140mm dia.（zui大可放置4"的基底） 载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调） 载样台zui高可加热温度为500℃，控温精度为+/- 1.0 °C

双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。

新材料

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。