无掩膜直写光刻机

1、405nm和375nm双激光源； 2、四个平行激光头，分辨率分别为0.7um, 1.6um, 4um，8um； 3、加工深宽比优于5比1； 4、150mm*150mm加工面积； 5、10nm纳米平台定位精度；

1、快速微纳米加工和小规模生产，可达到高分辨的器件； 2、掩膜板制作，无掩膜激光直写，成衍射光学器件， MIC微波集成电路； 3、微电子制作，MEMS/NEMS/传感器，微流体，光波管； 4、石墨烯器件，三维激光微纳米加工；

电子信息

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。