电感耦合等离子刻蚀机
Leuven HAASRODE-E200A
- 规格型号：HAASRODE-E200A
- 运行状态： 启用
- 仪器类型： HAASRODE-E200A
- 仪器认证： 已进行计量认证
- 参考收费标准： 按相关收费标准执行
服务信息
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1、Si etch. Etch rate>300nm/min；Selectivity (to PR)>3:1 Sidewall angle>85°，均匀性 ：100nm/min；Selectivity (to Cr)>20:1；Sidewall angle>85°，均匀性 ：70nm/min；Selectivity (to Cr)>20:1；Sidewall angle>85°，均匀性 ：
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HAASRODE-E200A通过感应耦合（ICP）方式产生高密度高功率等离子体，能兼容SiO2和SiN，SI刻蚀工艺，实现二维材料的刻蚀加工
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电子信息
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客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。
联系方式
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陈海城
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15396229468
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chenhaicheng@xmu.edu.cn
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厦门大学翔安校区能源材料1号楼1139
