电子束蒸发薄膜沉积系统

1. 设备适用于最大6寸，可兼容6寸以下包括碎片； 2. 适用于Lift-off工艺； 3. 常见金属材料，如Au、Ag、Cu、Pt、Ti、Al等皆可蒸镀； 4. 镀膜均一性≤3% 5. Recipe可设置镀膜速率和目标膜厚； 6. 机台配置6个15cc坩埚，一次可放置6种材料； 7. 配有晶振膜厚仪，镀膜速率和膜厚时时显示，镀膜速率显示精度0.1A/s，膜厚显示精度1A； 8. 配有扫描仪，可设置电子束扫描形状和频率等参数； 9. 基片可旋转，转速设置范围0-20rpm； 10. 腔体配自动进样室，进样室一次可放置6个6寸基片，成膜腔室一次成膜1片； 11. 进样室极限真空度≤5E-8 Torr，腔体极限真空度≤5E-9 Torr； 12. 基片从送样室进入镀膜室后，镀膜室恢复原高真空的时间少于5分钟。

1.适用于Lift-off工艺； 2.适用于大部分金属材料蒸镀； 3.镀膜均一性≤3%； 4.Recipe可设置镀膜速率和目标膜厚，制程时速率和膜厚时时显示。

电子信息

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。