原子层沉积系统
atomic layer deposition
- 规格型号：R-200
- 运行状态： 未启用
- 仪器类型： R-200
- 仪器认证： 已进行计量认证
- 参考收费标准： 按相关收费标准执行
服务信息
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真空腔体，极限压强：1-2mbar。 基片尺寸：200mm（8英寸），向下兼容2-6英寸样品； 最高温度：500摄氏度，温控精确度：±1℃。 电感耦合式远程等离子体；功率：100-3000W。
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等离子体增强型。 可生长氧化铪、氧化铝等超薄介质薄膜。
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电子信息
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客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。
联系方式
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黄巍A
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15259208367
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weihuang@xmu.edu.cn
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