双室磁控溅射沉积系统

真空室结构: 梨形上升盖 真空室尺寸: φ550×350mm 极限真空度: ≤6.6E-6Pa 沉积源: 永磁靶5套，φ2英寸 样品尺寸，温度: φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 最高800℃ 占地面积（长x宽x高）: 约3米×1.1米×2米 电控描述: 全自动 工艺: 片内膜厚均匀性：≤±3%

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备

新材料

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。