有机-金属真空热蒸镀仪

客制化的基板尺寸，最大直径为12寸晶圆或470 x 370 mm2(玻璃)。 优异的薄膜均匀度小于±3%。 用于有机材料的蒸发源（可用金属、陶瓷、石墨或PBN坩埚）。 镀率自动控制：最小值为0.01Ǻ/s。 蒸发源温度控制可达到精度±0.1oC。 具有顺序操作或共沉积的多个蒸发源。 用CCD对位将玻璃基板和遮罩的位置对准在±5μm以内。 每个蒸发源和基材均有安装遮板。 每个蒸发源和基板均装有百叶窗。

由304不锈钢所制成，通过外部焊接304不锈钢管线对腔体进行水冷。 宽大的前开式门，并有两个视窗和视窗遮版用于观察基材和蒸发源。 一个热蒸发腔体内，最多可容纳12组热蒸发源。 腔体的极限真空度约为10-8 Torr。

新材料

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。