反应离子刻蚀系统
Reactive Ion Etcher
- 规格型号：Sirus T2
- 运行状态： 启用
- 仪器类型： Sirus T2
- 仪器认证： 已进行计量认证
- 参考收费标准： 按相关收费标准执行
服务信息
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200mm下电极，系统控制器，13.56 MHz 600瓦射频发生器及自动调谐，最大为四路工艺气体，自动压力控制模块等。
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用于基底表面清洁、活化，以及光刻胶、纳米压印胶等胶的去除
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电子信息
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客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。
联系方式
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张维
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18030283160
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zhangwei@xmu.edu.cn
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化学219
