反射式高能电子衍射系统

1. 配备STAIB公司RHEED电子枪，电子枪能量最高可达30 KeV，工作气压最高可达0.4 Torr（50 Pa）； 2. 采用高压稳压电源，保证电子束的能量稳定性优于10-4 rad； 3. 电子枪配有μ金属屏蔽罩，屏蔽电磁场； 4. 配有三角定位倾斜调节装置，通过调整该机械装置，可以对电子束入射位置和角度进行粗调；采用静电场偏转设计，具有两级偏转系统，可以实现电子束最大±15°的偏转，对电子束的入射角和方位角进行精确微调； 5. 具备两级差分抽气功能，配备一套进口分子泵，可软件控制，抽速67L/S，带前级隔膜泵，真空规及配套连接管路。配有进口真空计； 6. 电子枪与分子泵之间配有减震器，用于减小分子泵震动的影响；

反射式高能电子衍射仪能实时监控单晶薄膜材料生长状况，能以原子级精准给出表面结构和平整度的信息，成为分子束外延或脉冲激光沉积系统必备的原位表面分析仪器。所制备高质量单晶薄膜在微电子、光电子、信息存储、超导、光电催化等领域具有十分广泛的应用。该设备能满足化学化工学院急剧增长的科研需求，尤其能够满足实时、原位监控单晶生长的特殊需求。

新材料

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。