无掩膜紫外光刻机

1. 光刻精度： 至少支持两个光刻镜头： 光刻镜头 1：最小线宽≤1.2 μm，工作距离≥19 mm； 光刻镜头 2：最小线宽≤0.8 μm，工作距离≥12 mm； 2. 支持交互式套刻指引功能； 3. 支持图像识别对焦； 4. 支持光刻镜头电动切换； 5. 曝光波长：405 nm；6. 数字掩模板分辨率：≥1920 * 1080，微镜尺寸≤7.6 um； 7.显微观测：支持显微观测且不会引起光刻胶变性； 8. 样品厚度：≥10 mm； 9. 样品尺寸：≥100 mm * 100mm； 10. 支持样品电动旋转； 11. 样品吸附：支持样品吸附； 12. 设备软件： 具备原位光绘功能、物像绑定功能、成像拼接功能、畸变矫正功能； 13. 画图软件：支持阵列画图、套刻画图。

可实现微纳米量级器件加工；具备套刻指引，所见即所得；不同倍率的紫外光刻物镜可电动切换；具备自动寻焦功能。

电子信息

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。