薄膜沉积系统

1.基片尺寸≤Ф12英寸 3.极限真空度：5×10-5 Pa 5.衬底温度：350 ℃ 7.样平台转速：≤20 r/min 9.镀膜均匀性：±5%（Al） 2.电子枪功率：5-10 KW 4.真空抽速：3*10-4 Pa/20 min 6.温度均匀性：±10 ℃ 8.坩埚数量：8 10.控制系统：PC+PLC自动控制

电子蒸发镀膜机是一种普适镀膜机，用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀各种硬质膜、金属膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。

其他

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。