高精度电子束蒸发系统

1、极限真空：5E-8 Torr 2、真空泵组：1500l/s冷泵 3、电子枪功率：5kW 4、蒸发源数量：6x20cc 5、膜厚控制：晶振

该设备能够提供极低的真空度，能够实现纳米尺度以下的成膜均匀性，为实现多维度物态调控，尤其是样品尺寸调控、电学调控、光学微腔生长等方面将起到至关重要的作用。目前学校现有平台类似设备有以下问题：1、电子腔的功率不够，无法蒸镀熔点较高的材料，如二氧化硅等。2、蒸镀材料的种类有限，如无法蒸镀二氧化钛等重要的氧化物半导体材料。3、衬底无法控温，没有加热和水冷系统，无法根据成膜的需求精准调控生长温度。

其他

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。