高真空共蒸发镀膜系统

1.真空系统：304不锈钢腔室，配中科科仪脂润滑分子泵F200/1300口径和鲍斯BSV30机械泵，8寸气动插板阀，一个两低一高真空计（量程从大气到3E-9torr）。 2.真空极限：优于3.0×10⁻⁵Pa；漏率：优于5×10⁻⁸Pa·L/S（国家标准）；关机12小时后，真空度≤5Pa（手套箱干燥氮气环境）。 3.抽气时间：大气压到5×10⁻⁴Pa，小于20min（手套箱干燥氮气环境）。 4.基片台：台尺200×200mm，可旋转、加热、0~30转/分连续可调，最高可加热至400℃。 5.蒸发源及电源：配2组内式蒸发源，金属源采用水冷铜电极+蒸发舟结构（最高温度1500℃），配备TDK GEN8-180蒸发电源1套；配备4套有机蒸发来源炉，4套普通真空有机蒸发电源。 6.膜厚控制系统：进口INFICON公司，型号SQC-310C，可4路同时显示，控制精度0.01%；配备3支进口MCVAC水冷探头（1顶2底），可实现两源共蒸发。 7.均匀性：均匀性±5%。 8.控制方式：西门子PLC+触摸屏手动控制，金属源可输入速率及终厚度，PID调节自动控制蒸发电源输出。

采用双源共蒸发制备各种不同面积的有机、无机或杂化半导体薄膜。

新能源

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。