原子层沉积设备

1.衬底材质：玻璃、硅片或者柔性衬底。 2.基片尺寸和装载量：可满足1片1200 mm×600 mm尺寸基材镀膜、衬底厚度3 mm±1 mm的玻璃镀膜，或8片300mm×300 mm尺寸、玻璃基材镀膜，或20片210mm×210 mm硅片。 3.沉积材料：SnOx、AlOx、NiOx、TiOx等材料。 4.前驱体源数量：8路，包含一路锡源、一路铝源、一路镍源、一路钛源、两路全硬件备用源路，一路H2O、一路臭氧源。 5.反应温度及精度：RT~200 ℃，控制精度±2℃。 6.成膜均匀性：1200 mm×600 mm片内/片间≤5%@200 ℃工艺，均匀性计算方式：在1200 mm×600 mm尺寸上，以玻璃作为测量基片，厂家提供工艺配方，沉积300循环二氧化锡，边缘10 mm以外取至少72个均匀分散点进行膜厚测试。 7.工艺节拍：1200 mm×600 mm玻璃片平均20-30 min/片@20 nm SnOx (不含人工取放片时间，85 ℃工艺)。 8.腔体极限真空：≤1 Pa，腔体漏率：≤5×10-5 Pa·L/s（氦检）。 9.真空泵：干泵，抽速≥400 m³/h。

该设备用于在玻璃或柔性基板上通过原子层沉积的方法制备SnOx、AlOx、NiOx、TiOx等薄膜。

新材料

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。