12英寸原子层沉积设备
- 规格型号：TALD-300D
- 运行状态： 启用
- 仪器类型： TALD-300D
- 仪器认证： 已进行计量认证
- 参考收费标准： 按相关收费标准执行
服务信息
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1、12inch向下兼容 2、可用于Cu、Ru、TiN等的薄膜沉积 3、工艺温度150~450℃，控温精度±1℃ 4、极限真空＜ 5E-5Torr 5、工艺指标：Thk U%≤1%；Step coverage>90% AR15；WPH≥3/PM@Thk 40A
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生长12吋晶圆的TiN、Ru、Cu、SiO2、AlN等薄膜。兼容12寸吋及以下晶圆尺寸。
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电子信息
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客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。
联系方式
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许荣彬
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18859233917
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xurongbin@xmu.edu.cn
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