等离子增强原子层级格系统

1、适合最大直径200mm及其以下尺寸基底的加工要求； 2、极限压力≤1x10-3mbar； 3、反应腔体最高加热温度为400℃ 4、生长方式：热法和等离子增强法； 5、沉积材料：氧化铝、氮化铝、氧化钛、氮化钛和氧化铪； 6、厚度不均匀性： ≤±2%。

1、前驱体是饱和化学吸附，保证生成大面积均匀性的薄膜； 2、可生成极好的三维保形性化学计量薄膜,作为台阶覆盖和纳米孔材料的涂层； 3、可轻易进行掺杂和界面修正； 4、可以沉积多组份纳米薄片和混合氧化物； 5、薄膜生长可在低温(室温到400℃)下进行； 6、可以通过控制反应周期数简单精确地控制薄膜的厚度,形成达到原子层厚度精度的薄膜； 7、固有的沉积均匀性,易于缩放,可直接按比例放大； 8、对尘埃相对不敏感,薄膜可在尘埃颗粒下生长； 9、气相反应可广泛适用于各种形状的基底； 10、不需要控制反应物流量的均一性。

电子信息

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。