磁控溅射镀膜系统

1. 3支Ф3英寸磁控溅射靶 2.基片加热器采用高温加热材料，最高温度可达到600℃ 3.真空性能： A. 极限真空(Ultimate Pressure):1E-7Torr B. 真空抽速：30分钟从大气压抽到5E-6Torr C. 真空室漏率：5E-5Torr.L/s 4..镀膜均匀性和重复性：在4英寸衬底厚度均匀性优于±5%，重复性优于±3%。 5.样品尺寸：≤6英寸

主要用于加工沉积高质量、厚度精确控制的金属薄膜和介质薄膜。

电子信息

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。