
化学气相沉积系统
Chemical Vapor Deposition
- 规格型号:ET 2000
- 运行状态: 启用
- 仪器类型: ET 2000
- 仪器认证: 已进行计量认证
- 参考收费标准: 按相关收费标准执行
服务信息
-
1、全套石英器件,4条独立控制气路(氩、氢、甲烷高、甲烷低流量),气体泄露探测器、焚烧式尾气处理; 2、独立三温区,最高温度1100 oC,恒温均匀性好于0.5 oC; 3、不小于98%面积的单层石墨烯; 4、本底真空30 mTorr, 100 mTorr-500 mTorr真空可控,生长气压范围广; 5、衬底大小:单片或多片总面积不大于100 mm*50 mm。
-
专利技术保证高质量单层石墨烯生长,成熟工艺、高自动化程序。
-
新材料
-
客户提前10天申请,商榷检定日期,检定人员到现场检定,待检定合格后方可使用。
联系方式
-
崔景芹
-
15960281703
-
jqcui@xmu.edu.cn
-
本部洁净室Room5