磁控溅射镀膜机

1.极限真空5×10-4Pa 2.恢复真空8×10-4Pa,室温≤30分钟 3.两个直径为100mm的磁控靶 4.一套直流靶电源，功率为1KW。一套13.56MHZ的射频电源，功率为1KW 5.靶基距在30-70mm的范围内可调 6.工件转盘转速0-20转/分可调 7.基片加热室温到300℃连续可调，可控，控温精度为±1%，采用铂电阻测温

主要用沉积金属膜和非金属膜。

电子信息

客户提前10天申请，商榷检定日期，检定人员到现场检定，待检定合格后方可使用。