刀具改性多弧与磁控溅射镀膜系统
无
- 品牌：中科院沈阳科学仪器研制中心
- 型号：JGP-450
- 产地：中国
- 启用日期：2009-12-23
- 学科领域：材料科学,化学工程
仪器信息
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刀具改性多弧与磁控溅射镀膜系统
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>电真空器件工艺实验设备
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材料科学,化学工程
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真空室结构: 圆筒形上升盖 真空室尺寸: φ450×350mm 极限真空度: ≤6.0E-5Pa 沉积源: 永磁靶3套，φ2英寸 样品尺寸，温度: φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 最高800℃ 占地面积（长x宽x高）: 约2米×1.5米×2米 电控描述: 全自动 工艺: 片内膜厚均匀性：≤±3%
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用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等
服务信息
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薄膜溅射
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150元/样
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测试前需提前联系
联系方式
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化学化工学院
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梁汉锋
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13599522004
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hfliang@xmu.edu.cn
