双室磁控溅射沉积系统
无
- 品牌：沈阳科仪
- 型号：JGP560型
- 产地：中国
- 启用日期：2010-12-22
- 学科领域：材料科学
仪器信息
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双室磁控溅射沉积系统
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无
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>电真空器件工艺实验设备
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材料科学
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溅射室极限真空度：≤8x10-6 Pa (经烘烤除气后)；进样室极限真空度：≤6.67x10-4 Pa (经烘烤除气后) 系统真空检漏漏率：≤6.6x10-8 Pa.l/S；系统从大气开始抽气：溅射室40分钟可达到6.6x10-4 Pa； 进样室40分钟可达到6.6x10-3 Pa
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制备金属合金膜、多层膜
服务信息
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制备金属合金膜、多层膜
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340元/小时
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详见实验处网站
联系方式
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材料学院
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卢勇
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13950168391
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luyong@xmu.edu.cn
