磁控溅射仪
无
- 品牌：北京创世威纳科技有限公司
- 型号：MSP-400C
- 产地：中国
- 启用日期：2017-10-09
- 学科领域：物理学,化学,工程与技术科学基础学科,自然科学相关工程与技术
仪器信息
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磁控溅射仪
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无
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工艺实验设备>其他>其他
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物理学,化学,工程与技术科学基础学科,自然科学相关工程与技术
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1. 极限真空度：≤6.6×10-6Pa (经烘烤除气后，连续抽气24小时) 2. 系统从大气（空载，暴露大气时充干燥氮气，时间不超过5分钟）开始抽气，25分钟可达到6.6×10-4 Pa 3. 溅射室为圆筒形结构，尺寸约Ф800mm×300mm，双层水冷结构。 4. 磁控溅射靶：直径150mm 3个 5. 基片尺寸和数量： 直径4英寸样品,一次可放置6片 6. 样品加热温度：室温～600°C，连续可调 7. 100SCCM、50SCCM、20SCCM质量流量控制器 8. 分子泵：1台（进口），抽速1600 l/s； 9. 机械泵： 1台 （优成），抽速9 l/s 10....
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各类金属膜、陶瓷膜的制备
服务信息
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基底上常规金属膜的沉积镀膜
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405元/小时
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需自带靶材
联系方式
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材料学院
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郑大江
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18205913095
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zhengdajiang@xmu.edu.cn
