脉冲激光沉积系统

脉冲激光沉积系统

pulsed laser deposition system

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化学

一、 主腔体： 1. 腔体材料采用优质304不锈钢，全金属密封连接，腔体圆柱形设计直径16英寸；主腔体配至少两个观察窗口，便于观察操作及生长情况；同时配有一个UV-grade的石英窗口，以便引入激光束。 2. 真空系统采用德国普发（Pfeiffer）分子泵（Hipace300），抽速为300 L/s，并配合使用涡旋式无油干泵(Varian)，本底极限真空度烘烤后优于2×10-8 mbar；分子泵与主腔体之间安装真空阀门。 3. 主腔体配备两套不同的真空计，一套组合pirani/Bayard-Alpert真空计，量程5×10-10 mbar到1 bar，用于测量真空度。另外配...

制备各种氧化物半导体薄膜、过渡金属氧化物薄膜，磁电耦合多层薄膜以及二维材料等

PLD在微电子、光电子、信息存储、超导、光电催化等领域具有十分广泛的应用。

常规检测：1650元/样

测试前请先电话联系