无掩膜直写光刻机

无掩膜直写光刻机

maskless direct lithography

工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备

物理学,化学,航空、航天科学技术

1、最小线宽＜1μm ； 2、加工深宽比优于5比1； 3、套刻对准精度≤1μm ； 4、具有256阶灰阶光刻以及3D刻蚀功能 ； 5、405nm和375nm双激光源； 6、四个平行激光头，分辨率分别为0.7um, 1.6um, 4um，8um； 7、加工深宽比优于5比1； 8、150mm*150mm加工面积； 9、10nm纳米平台定位精度；

可用于微纳米图形加工

1、快速微纳米加工和小规模生产，可达到高分辨的器件； 2、掩膜板制作，无掩膜激光直写，成衍射光学器件， MIC微波集成电路； 3、微电子制作，MEMS/NEMS/传感器，微流体，光波管； 4、石墨烯器件，三维激光微纳米加工；

1、图形加工：500元/小时； 2、其他根据具体加工需求，面议。

1、用户独立使用仪器前需在仪器共享平台网站上报名相关仪器的培训，仪器管理员培训考核通过后方可获得独立上机操作权限； 2、仪器使用前均需在仪器共享平台网站上进行预约，待审核通过后方可上机； 3、用户需按时上机，失约后将无法使用仪器； 4、其他特殊测试需求需提前联系仪器管理员，协商确认后方可委托送样测试；