离子刻蚀机2
无
- 品牌：嘉兴科民电子设备技术有限公司
- 型号：RIE-100
- 产地：中国
- 启用日期：2021-12-23
- 学科领域：信息科学与系统科学,工程与技术科学基础学科,自然科学相关工程与技术,电子与通信技术
仪器信息
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离子刻蚀机2
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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信息科学与系统科学,工程与技术科学基础学科,自然科学相关工程与技术,电子与通信技术
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1. 刻蚀材料：Si/SiO2/SiNx/poly-Si/光刻胶等 2. 样片尺寸：直径100 mm，兼容4英寸及以下尺寸样片与碎片 3. 真空系统：本底真空优于7.6×10-3 Pa 4. 刻蚀工艺的均匀性：4英寸内≤ ±5% 5. 设备尺寸： ≤800mm×800 mm×1100mm
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刻蚀材料：Poly-Si、Si、SiO2、光刻胶等硅基工艺常见材料等。
服务信息
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国家产教研融合平台-RIE刻蚀培训
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开机固定费150.00元，开机费70.00元/小时，机时补贴费 40.00元/小时，普通材料费190.00元/小时，附加材料费根据实际使用计费。
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联系方式
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电子科学与技术学院
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李明泼
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13959278330
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lixun06@xmu.edu.cn
