MPCVD微波等离子体化学气相沉积设备
无
- 品牌：上海启镨新材料有限公司
- 型号：MW652
- 产地：中国
- 启用日期：2022-12-14
- 学科领域：材料科学
仪器信息
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MPCVD微波等离子体化学气相沉积设备
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无
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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材料科学
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真空漏率：<5x10-10 Pa*m3 /s； 样品台有效面积：52mm； 微波有效输出功率：6KW； 满功率稳定使用时长：6-30天；
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用于制备金刚石薄膜
服务信息
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MPCVD是制备高质量金刚石散热薄膜的主流设备，该薄膜可应用于先进半导体芯片，解决芯片散热的技术瓶颈。
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校内用户 开机固定费: 0元； 开机费：114元/小时； 机时补贴费： 0元； 材料费：300元/小时； 校外用户 开机固定费: 0元； 开机费：148元/小时； 机时补贴费： 0元； 材料费：390元/小时；
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使用需通过实验室安全准入考试，使用前需接受安全操作培训。
联系方式
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电子科学与技术学院
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林伟毅
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18959215330
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wylin@xmu.edu.cn
