双靶磁控溅射仪

双靶磁控溅射仪

无

分析仪器>电子光学仪器>其他

自然科学相关工程与技术

一、技术指标 1、仪器特点： 1.1 配置两个靶枪，一个为弱磁靶用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。 1.2 可制备多种薄膜，应用广泛。 1.3 体积小，操作简便。 2、技术参数： 2.1 电源电压：220V，50Hz 2.2 总功率：2KW ★2.3 极限真空度：< 1E-6mbar 2.4 工作温度：室温-500℃，精度±1℃ ★2.5 靶枪数量：2个 ▲2.6 靶枪冷却方式：水冷 2.7 靶材尺寸：Φ2″，厚度0.1-5mm 2.8 直流溅射功率：≥500W 2.9 射频溅射功率：≥300W ★2.10 载样台：Φ140mm 2.11...

双靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备，可以用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

广泛地应用于各种功能性薄膜、化学气相沉积（CVD）生长困难及不适用的材料薄膜沉积光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等课题，其应用领域涉高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜等

200元/样

一、本实验室仪器面向化学化工学院、厦门大学校内师生及校外各社会单位开放预约及使用。预约优先级别依次为本实验室、院内、校内、校外单位。 二、实验室设备使用实行有偿服务、收支两条线制度。所收取的费用主要用于仪器设备平时的维护、维修、改造及功能开发等用途。 三、在大型仪器平台预约系统未完善之前，为保障仪器的有效使用，使用者应当于使用前1-3天提前联系仪器管理员，协商送样及预约相关事宜，确定具体使用时间。如因故需变更者，至少提前一天通知仪器管理员，说明取消或改约原因。使用者应按预约时间准时前往实验室使用仪器。无故迟到15分钟以上者，取消当次使用资格。 四、本实验室仪器设备使用时间为工作日早9：00-12：00，下午14：00-18：00，节假日不予预约使用。如确有特殊实验需求，需在非常规时间使用的老师，需提前在工作日内联系仪器管理员沟通。 五、实验室内设备预约实行实名制，严禁代人预约。 六、实验室原则上由设备管理员负责各房间的开、关门，使用者不得私自进入做实验。