双靶磁控溅射仪

双靶磁控溅射仪

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自然科学

一、技术指标 1、仪器特点： 1.1 配置两个靶枪，一个为弱磁靶用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。 1.2 可制备多种薄膜，应用广泛。 1.3 体积小，操作简便。 2、技术参数： 2.1 电源电压：220V，50Hz 2.2 总功率：2KW ★2.3 极限真空度：< 1E-6mbar 2.4 工作温度：室温-500℃，精度±1℃ ★2.5 靶枪数量：2个 ▲2.6 靶枪冷却方式：水冷 2.7 靶材尺寸：Φ2″，厚度0.1-5mm 2.8 直流溅射功率：≥500W 2.9 射频溅射功率：≥300W ★2.10 载样台：Φ140mm 2.11...

双靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备，可以用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

广泛地应用于各种功能性薄膜、化学气相沉积（CVD）生长困难及不适用的材料薄膜沉积光学薄膜（如增透膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃等课题，其应用领域涉高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜等

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