SUSS光刻机
Mask Aligner
- 品牌：SUSS Micro Tec Lithography GmbH
- 型号：MA/BA8 Gen4
- 产地：德国
- 启用日期：2023-05-09
- 学科领域：信息科学与系统科学,工程与技术科学基础学科,信息与系统科学相关工程与技术,电子与通信技术
仪器信息
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SUSS光刻机
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Mask Aligner
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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信息科学与系统科学,工程与技术科学基础学科,信息与系统科学相关工程与技术,电子与通信技术
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适用于8英寸及以下晶圆，光源包括 UV400 波段，含 I（365nm）G（405nm）H（436nm）三个波长，线宽分辨率：真空接触≤0.8μm，20μm间隙≤3.0μm，套刻精度≤±0.1μm(正面)、≤±0.5μm (背面) 。
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集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件等领域的光刻
服务信息
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开机费240.00元/小时，机时补贴费 20.00元/小时，普通材料费110.00元/小时，附加材料费根据实际使用计费。
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无
联系方式
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电子科学与技术学院
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李明泼
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13959278330
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lixun06@xmu.edu.cn
