无掩膜紫外光刻机（含软件）

无掩膜紫外光刻机（含软件）

maskless UV lithography

工艺实验设备>电子工艺实验设备>电子产品通用工艺实验设备

物理学,材料科学,电子与通信技术

1. ★光刻精度： 至少支持两个光刻镜头： 光刻镜头1：最小线宽≤1.2 μm，工作距离≥19 mm； 光刻镜头2：最小线宽≤0.8 μm，工作距离≥12 mm 2. ★具备交互式套刻指引功能 3. ▲具备图像识别对焦功能 4. ★支持光刻镜头电动切换 5. 曝光波长：405 nm 6. ★数字掩模板分辨率：≥1920 * 1080，微镜尺寸≤7.6 um 7. 显微观测：支持显微观测且不会引起光刻胶变性 8. ▲样品厚度：≥8 mm 9. ▲样品尺寸：≥80 mm *80 mm 10. ★支持样品电动旋转 11. 样品吸附：支持样品吸附 12. ★设备软件： 原位光绘功能

用于制作微纳米尺度器件，最小分辨率可达 0.8μm。

无掩膜紫外光刻机是是自旋电子学材料、物理与器件制备的常用设备，可广泛用于微纳结构曝光、电输运测试/光电测试器件的制备、二维材料电极的搭建、太赫兹/毫米波器件的制备和金属有机框架材料加工（晶体）、纳米材料加工、场效应器件等诸多领域，实现对光场、光吸收和发光等一系列的调控，能极大的满足学科中的光电信息电信息材料与技术、低维纳米材料与电子学、量子材料与物理研究、低维功能材料研究等领域的基础研究需求。

250元/时

无