紫外光刻机

紫外光刻机

Ultraviolet Lithography Machine

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物理学

1. 光刻精度： 至少支持两个光刻镜头： 光刻镜头1：最小线宽≤1.2 μm，工作距离≥19 mm； 光刻镜头2：最小线宽≤0.8μm，工作距离≥12 mm 2. 支持交互式套刻指引功能 3. 支持图像识别对焦 4. 支持光刻镜头电动切换 5. 曝光波长：405 nm；6. 数字掩模板分辨率：≥1920 * 1080，微镜尺寸≤7.6 um； 7.显微观测：支持显微观测且不会引起光刻胶变性 8. 样品厚度：≥10 mm 9. 样品尺寸：≥100 mm * 100mm 10. 支持样品电动旋转 11. 样品吸附：支持样品吸附 12. 设备软件： 具备原位光绘功能、物像绑定功能...

用于制作微纳米尺度自旋电子材料与器件

半导体制造、集成电路、微电子领域以及光电子元器件的制造

按样品收费

无