电感耦合等离子体增强原子层沉积系统

电感耦合等离子体增强原子层沉积系统

remote ICP plasma enhanced atomic layer deposition

工艺实验设备>电子工艺实验设备>电真空器件工艺实验设备

化学工程

（1）远程等离子ICP源设计：射频频率13.56MHz，射频功率不超过300W，对样品表面损伤最小 （2）热法工艺模式，具备，工艺温度可达到500℃，控温精度优于±1℃ （3）H2/O2安全互锁，过压终止，过热终止，错误编写菜单检测等 （4）前驱源通道管线不少于6路（Cu, Ru，Pt，Co及Ti，预留1路），可做Pt、Co、Cu、Ru、Ti等金属等薄膜的工艺，且片内均匀性≤3% @Ru-8’’ （5）真空无油分子泵，抽速不小于300L/S，反应腔本底真空优于2×10-6torr，保证沉积高质量的薄膜 （6）扩散工艺模式，满足深沟槽、微结构陈列等深孔、通孔等镀膜，深宽比不小...

通过自限制沉积方式可获得超薄、均匀性好的高质量金属导电薄膜材料或氮化物薄膜，该系统具有用热法与等离子体增强法两种沉积模式，可实现plasma工艺和thermal工艺，同时具有深孔结构的填充工艺模块，具有良好的包裹性，是制备先进MEMS、TSV的关键工艺设备。

半导体器件、光电器件、功能纳米器件以及生物电子器件等众多领域，服务制备先进MEMS、TSV的关键工艺

校外用户1000元/小时

1、用户独立使用仪器前需在仪器共享平台网站上报名相关仪器的培训，仪器管理员培训考核通过后方可获得独立上机操作权限； 2、仪器使用前均需在仪器共享平台网站上进行预约，待审核通过后方可机； 3、用户需按时上机，失约后将无法使用仪器； 4、其他特殊测试需求需提前联系仪器管理员，协商确认后方可送样实验；