纳米压印系统
Obducat Eitre-6 Nanoimprint lithography system
- 品牌：Obducat AB 公司
- 型号：Eitre-6
- 产地：中国
- 启用日期：2012-06-05
- 学科领域：化学
仪器信息
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纳米压印系统
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Obducat Eitre-6 Nanoimprint lithography system
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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化学
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温度范围：室温—300℃；温度均匀性：±3%；温度设置精度：±2℃； 加热速率：100℃/min; 降温速率：50℃/min；压印均匀性；±20nm；压力：≤80bar； 压模尺寸及压印区域：?≤152mm； 基底尺寸：? 102mm； 结合最高STU制程温度：200℃；UV波长：200nm-—1000nm；曝光区域：6inch; 热压结合紫外同时曝光技术（STU），中间体软模转压印技术（IPS）
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系统主要用于通过紫外纳米压印和热纳米压印两种模式进行纳米图案转移复制。复制最小结构可小于30纳米，特点是可在全面积内最小化残余胶厚度，可同时进行紫外和热压印。
服务信息
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纳米图形转移复制
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1300元/样
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详见实验处网站
联系方式
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化学化工学院
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周勇亮
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18959281587
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ylzhou@xmu.edu.cn
