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激光直写光刻系统

激光直写光刻系统

Laser direct writing system

品牌:Durham Mafneto Optics Ltd.
型号:MLTM
产地:英国
启用日期:2015-04-17
学科领域:物理学,电子与通信技术
仪器信息
激光直写光刻系统
Laser direct writing system
工艺实验设备>加工工艺实验设备>其他
物理学,电子与通信技术
激光波长405纳米,最高分辨率0.6微米,最大样品尺寸:8英寸
与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 15个蓝光激光头可以在电脑控制下进行平行工作,对基片上无需高分辨率的部分进行高速书写曝光,之后自动切换高分辨激光,并对需要高分辨的细节进行加工,在加工速度和分辨率之间取得了最好的平衡,并通过软件改变曝光图案设计完整保证了其灵活性。
服务信息
光刻
177元/小时
用户经过培训并考核通过、获得授权才能预约。
联系方式
物理科学与技术学院
刘达艺
05922187737
day@xmu.edu.cn