原子层沉积系统
Atomic Layer Deposition System
- 品牌：Picosan Oy 公司
- 型号：R-200 Advanced
- 产地：中国
- 启用日期：2014-05-15
- 学科领域：化学
仪器信息
-
原子层沉积系统
-
Atomic Layer Deposition System
-
工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
-
化学
-
◆ 双腔室热壁反应器 ◆ 专门的纳米粒子或粉末反应器 ◆ AC-2025 臭氧发生器 (10%) ◆六个前驱体源和四个独立进气口 ◆ 最高沉积温度为 500摄氏度 ◆ 配四级杆质谱
-
该系统主要应用于在纳米粒子或硅等固相基底表面原子层沉积金属氧化物。沉积的材料包括但不限于Al2O3, TiO2, SiO2
服务信息
-
固体表面及粉末的表面氧化物包裹
-
1000元/样
-
详见实验处网站
联系方式
-
化学化工学院
-
周勇亮
-
18959281587
-
ylzhou@xmu.edu.cn
