反应离子刻蚀系统
Reactive Ion Etcher
- 品牌：Trion Technology公司
- 型号：Sirus T2 Plus
- 产地：美国
- 启用日期：2014-09-15
- 学科领域：化学
仪器信息
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反应离子刻蚀系统
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Reactive Ion Etcher
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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化学
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200mm下电极，系统控制器，13.56 MHz 600瓦射频发生器及自动调谐，最大为四路工艺气体，自动压力控制模块等。
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用于基底表面清洁、活化，以及光刻胶、纳米压印胶等胶的去除
服务信息
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基底表面清洁，光刻胶去除
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300元/小时
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遵守实验室安全室管理规定，在经过管理人员培训合格后才能使用。
联系方式
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化学化工学院
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周勇亮
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18959281587
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ylzhou@xmu.edu.cn
