光刻机
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- 品牌：OAI
- 型号：OAI Model 204
- 产地：美国
- 启用日期：2016-06-19
- 学科领域：生物学,电子与通信技术
仪器信息
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光刻机
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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生物学,电子与通信技术
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掩模版适用尺寸：五英寸； 基片尺寸：4英寸及以下不规则形状基片； 汞灯功率：350W； 分辨率：2μm。
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单面对准曝光
服务信息
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硅片等的单面对准曝光
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900元/小时
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7天24小时预约开放，经培训后自主操作，按使用机时计费
联系方式
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萨本栋微米纳米科学技术研究院
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张艳
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15359240780
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zhangyan2003@xmu.edu.cn
