化学气相沉积系统
Graphene CVD
- 品牌:CVD system
- 型号:ET2000
- 产地:美国
- 启用日期:2016-08-02
- 学科领域:电子与通信技术,航空、航天科学技术
仪器信息
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化学气相沉积系统
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Graphene CVD
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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电子与通信技术,航空、航天科学技术
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1、全套石英器件,4条独立控制气路(氩气、氢气、高、低流量甲烷),气体泄漏探测器。 2、独立三温区,最高温度1100℃,恒温均匀性小于0.5℃。 3、不小于98%面积的单层石墨烯。 4、100mtorr至500torr真空可控,最低真空50mtorr,单独常压尾气排气管路。 5、衬底大小:≤50mm×50mm或2英寸。
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专利技术保证高质量石墨烯生长,成熟工艺程序
服务信息
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高质量石墨烯生长,98%面积单层石墨烯,单层石墨烯中98%面积为单晶石墨烯。
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300元/小时
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7天24小时开放,按使用时间计费
联系方式
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萨本栋微米纳米科学技术研究院
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崔景芹
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15960281703
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jqcui@xmu.edu.cn