光刻键合机
Lithographic machine
- 品牌：休斯微技术股份公司
- 型号：MA6BA6
- 产地：德国
- 启用日期：2002-07-11
- 学科领域：工程与技术科学基础学科
仪器信息
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光刻键合机
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Lithographic machine
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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工程与技术科学基础学科
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1.分辨率1μm； 2.单面对准精度1μm，双面对准精度3μm ； 3.可用4英寸和5英寸掩膜版； 4.最大样品尺寸4英寸。
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用于MEMS加工工艺过程中的光刻过程，可满足4英寸以下片子的单、双面曝光。
服务信息
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在基片上形成光刻胶图案
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1200元/小时 或200元/样 详询管理人员
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7天24小时开放预约 ，需与设备主管人员联系
联系方式
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萨本栋微米纳米科学技术研究院
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苏丽锦
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0592-2187739
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lijinsu2003@126.com
