刻蚀机
DRIE
- 品牌：ALCATEL
- 型号：AMS200(阿尔卡特)
- 产地：法国
- 启用日期：2006-01-17
- 学科领域：电子与通信技术
仪器信息
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刻蚀机
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DRIE
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>半导体集成电路工艺实验设备
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电子与通信技术
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1.反应室的最高真空度小于5x10-6mbar； 2.压力稳定时间 7s； 3.射频源发生器反射功率10W，功率校准20W； 4.下电极射频发生器反射功率10W,功率校准5W； 5.下电极温度控制底面氦冷却在10mbar压力下氦流量3sccm,温控稳定性1 °C
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主要用于刻蚀硅体结构，氧化硅薄膜、氮化硅薄膜及碳化硅薄膜等。
服务信息
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在硅基上实现三维立体结构
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800元/小时 按时计算
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7天24小时，与设备管理员联系
联系方式
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萨本栋微米纳米科学技术研究院
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张玉龙
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18959242068
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zyl98@xmu.edu.cn
