金属有机物化学气相沉积系统
MOCVD
- 品牌：Thomas Swan公司
- 型号：ccs 3x2
- 产地：英国
- 启用日期：2006-07-01
- 学科领域：物理学
仪器信息
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金属有机物化学气相沉积系统
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MOCVD
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工艺实验设备>电子工艺实验设备>其他
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物理学
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运行稳定：0-1200C；转速：0-600RPM；样品托盘：3*2；生长源气：TMGa，TMAl，TMIn，CP2Mg,SiH4,NH3。
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生长III-V族化合物半导体材料以及它们的多组元固溶体的薄层单晶
服务信息
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III-V族化合物半导体材料以及它们的多组元固溶体的薄层单晶生长
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7750元/炉
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详见实验处网站
联系方式
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物理科学与技术学院
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陈航洋
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0592-2187737
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chycn@xmu.edu.cn
